基本信息:
- 专利标题： 电子束曝光系统
- 专利标题（英）：Electron beam exposure system
- 申请号：CN200380102559.5 申请日：2003-10-30
- 公开(公告)号：CN100437882C 公开(公告)日：2008-11-26
- 发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
- 申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
- 申请人地址： 荷兰代尔夫特
- 专利权人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
- 当前专利权人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰代尔夫特
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 付建军
- 优先权： 60/422,758 2002.10.30 US
- 国际申请： PCT/NL2003/000745 2003.10.30
- 国际公布： WO2004/040614 EN 2004.05.13
- 进入国家日期： 2005-04-29
- 主分类号： H01J37/302
- IPC分类号： H01J37/302 ; H01J37/317 ; H01J37/304 ; G03F7/20
摘要：
本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
公开/授权文献:
- CN1708826A 电子束曝光系统 公开/授权日：2005-12-14
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
| --------H01J37/02 | .零部件 |
| ----------H01J37/302 | ..用外部信息控制电子管的，如程序控制 |