基本信息:
- 专利标题： 光学构件用合成石英玻璃、投影曝光装置及投影曝光方法
- 专利标题（英）：Synthetic quartz glass for optical member, projection exposure device, and projection exposure method
- 申请号：CN03808732.4 申请日：2003-04-23
- 公开(公告)号：CN100389085C 公开(公告)日：2008-05-21
- 发明人： 生田顺亮 , 阿形纪之
- 申请人： 旭硝子株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 旭硝子株式会社
- 当前专利权人： 旭硝子株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 沈昭坤
- 优先权： 120805/2002 2002.04.23 JP
- 国际申请： PCT/JP2003/005193 2003.04.23
- 国际公布： WO2003/091175 JA 2003.11.06
- 进入国家日期： 2004-10-18
- 主分类号： C03C3/06
- IPC分类号： C03C3/06 ; G02B1/02 ; H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
一种光学构件用合成石英玻璃，在以ArF受激准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度2mJ/cm2/脉冲以下使用，或者是以KrF受准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度30mJ/cm2/脉冲以下使用，其特征在于，其氢分子浓度在1×1016分子/cm3以上、5×1016分子/cm3以下的范围内。
公开/授权文献:
- CN1646440A 光学构件用合成石英玻璃、投影曝光装置及投影曝光方法 公开/授权日：2005-07-27