
基本信息:
- 专利标题: 用于测量投影系统会聚对准状况的系统和方法
- 专利标题(英):System and method for measuring convergence alignment of projection system
- 申请号:CN00806283.8 申请日:2000-03-08
- 公开(公告)号:CN100380988C 公开(公告)日:2008-04-09
- 发明人: R·D·史密斯
- 申请人: 英特尔公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人: 王岳; 王忠忠
- 优先权: 09/293,189 1999.04.16 US
- 国际申请: PCT/US2000/005910 2000.03.08
- 国际公布: WO2000/064188 EN 2000.10.26
- 进入国家日期: 2001-10-16
- 主分类号: H04N9/28
- IPC分类号: H04N9/28 ; H04N17/04 ; H04N9/31
摘要:
测量会聚对准状况的系统(402)可以包括一个光学系统(400),它安排成优先地成像和放大显示屏幕区域(428),这些区域处在通常由使用者观看的区域的外部。那个区域(428)可以包括会聚标靶(425),这些标靶可以与显示的每个角落相关联。那个信息可以作为一元化的图像提供给成像传感器(414),它在其后可用于分析该信息,而且,如果希望的话,还可做适当的校正。
公开/授权文献:
- CN1347622A 投影系统汇聚对准状况的测量 公开/授权日:2002-05-01