最新中国发明专利 / 2021-07-23 偏振发光材料及偏振发光层的制备方法转让专利 申请号 : CN202010258216.3 文献号 : CN111440401B 文献日 : 2021-07-23 基本信息: 请登录后查看 PDF: 请登录后查看 法律信息: 请登录后查看 相似专利: 请登录后查看 发明人 : 韦宏权 摘要 : 本发明提供了一种偏振发光材料及偏振发光层的制备方法。所述偏振发光材料中的组分按质量百分比包括49.9‑89.9%的荧光可聚合单体、0.1‑1%的光引发剂以及10‑50%的溶剂。其中,所述荧光可聚合单体中具有碳碳双键官能团和硫醇基团。