该申请人涉及专利文献:5165,涉及专利:3299件
覆盖主要的IPC大类包括:G03(2665)、H01(987)、G01(320)、G02(241)、H05(220)、G06(212)、G21(64)、G05(49)、F16(34)、H02(32)
专利类型分布状况:发明公开(3298)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(1351)、实质审查(1024)、失效专利(519)、无效专利(211)、公开(191)
该领域主要的发明人有:H·巴特勒(56)、W·T·特尔(43)、A·J·登博夫(35)、任伟明(35)、J·洛夫(30)、N·潘迪(28)、A·J·布里克(26)、M·J-J·维兰德(22)、方伟(22)、王勇新(21)
详细地址:荷兰 荷兰维德霍温
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
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发明授权 | 检测辐射束的光刻设备和方法 | CN114450636B |
发明公开 | 用于校准光刻设备的衬底 | CN120513433A |
发明授权 | 辐射源 | CN114174909B |
发明公开 | 利用管芯致动器用于异质集成的拾取和放置 | CN120457529A |
发明公开 | 用于异构集成的基于凹部的拾取和放置 | CN120457528A |
发明公开 | 模块化组件 | CN120457516A |
发明公开 | 热调节系统和光刻设备 | CN120457391A |
发明公开 | 衬底夹具润滑 | CN120435691A |
发明公开 | 剂量控制系统 | CN120435687A |
发明公开 | 具有聚结前液滴检测模块的EUV光源靶标发生器 | CN120419289A |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | ASML荷兰有限公司 | 5162 |
2 | ASML荷兰有限公司(NL) | 2 |
3 | ASML 荷兰有限公司 | 1 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | H·巴特勒 | 56 |
2 | W·T·特尔 | 43 |
3 | A·J·登博夫 | 35 |
4 | 任伟明 | 35 |
5 | J·洛夫 | 30 |
6 | N·潘迪 | 28 |
7 | A·J·布里克 | 26 |
8 | M·J-J·维兰德 | 22 |
9 | 方伟 | 22 |
10 | 王勇新 | 21 |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3167 |
2 | 北京市金杜律师事务所 | 1515 |
3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
排名 | 代理人 | 专利 |
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1 | 王波波 | 755 |
2 | 张启程 | 551 |
3 | 王茂华 | 506 |
4 | 王益 | 412 |
5 | 胡良均 | 382 |
6 | 吴敬莲 | 334 |
7 | 张宁 | 252 |
8 | 王静 | 249 |
9 | 王新华 | 239 |
10 | 赵林琳 | 218 |