该申请人涉及专利文献：5255，涉及专利：3364件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2718)、H01(1004)、G01(327)、G02(245)、H05(222)、G06(213)、G21(64)、G05(50)、F16(34)、H02(32)
专利类型分布状况：发明公开(3363)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1363)、实质审查(1045)、失效专利(531)、无效专利(212)、公开(210)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(56)、W·T·特尔(45)、A·J·登博夫(35)、任伟明(35)、J·洛夫(30)、N·潘迪(28)、A·J·布里克(26)、M·J-J·维兰德(22)、方伟(22)、王勇新(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明授权 | 夹具组件 | CN114761879B |
| 发明公开 | 衬底保持器、衬底支撑件、光刻装置以及方法 | CN120826649A |
| 发明公开 | 照射源和相关的量测设备 | CN120821158A |
| 发明公开 | 用于对准衬底的系统和方法 | CN120813901A |
| 发明授权 | 包括目标布置的衬底和相关联的至少一个图案形成装置、光刻方法和量测方法 | CN115552221B |
| 发明公开 | 允许表膜与图案形成装置之间的区域中压力增加的、用于支撑光刻设备中的表膜的系统 | CN120731396A |
| 发明授权 | 对产品特征使用AT分辨率量测的晶片对准方法 | CN115516383B |
| 发明公开 | 用于基于相似性指标选择图案的方法和系统 | CN120712526A |
| 发明公开 | 图案形成设备装载方法 | CN120712521A |
| 发明授权 | 基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案 | CN115047719B |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5252 |
| 2 | ASML荷兰有限公司(NL) | 2 |
| 3 | ASML 荷兰有限公司 | 1 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 56 |
| 2 | W·T·特尔 | 45 |
| 3 | A·J·登博夫 | 35 |
| 4 | 任伟明 | 35 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | N·潘迪 | 28 |
| 7 | A·J·布里克 | 26 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 22 |
| 9 | 方伟 | 22 |
| 10 | 王勇新 | 22 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3215 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1557 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 560 |
| 3 | 王茂华 | 506 |
| 4 | 王益 | 418 |
| 5 | 胡良均 | 397 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 254 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 224 |
