该申请人涉及专利文献：6013，涉及专利：3812件
覆盖主要的IPC大类包括：C08(1328)、H01(978)、G03(762)、C09(704)、C07(324)、A61(222)、C03(210)、C01(166)、B32(141)、G02(122)
专利类型分布状况：发明公开(3769)、外观设计(25)、实用新型(18)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1801)、实质审查(871)、无效专利(569)、失效专利(441)、公开(130)
该领域主要的发明人有：畠山润(103)、秋山昌次(80)、关原一敏(76)、福岛将大(64)、乙坂哲也(62)、郡大佑(58)、吉川博树(47)、三宅裕树(45)、丸山仁(42)、柏木努(37)
详细地址：日本 日本东京
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 实用新型 | 成膜系统及成膜装置 | CN217948254U |
| 实用新型 | 激光诱导向前转移系统与装置、基板及显示器的制造系统 | CN216980602U |
| 实用新型 | 防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的光掩模及系统 | CN217821249U |
| 实用新型 | 防护膜框架层叠体及制造系统、包装物以及运输系统 | CN217821248U |
| 实用新型 | 带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统 | CN217787599U |
| 实用新型 | 防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的装置及系统 | CN216118382U |
| 实用新型 | 防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、装置与系统、半导体及液晶显示板的制造系统 | CN215986893U |
| 实用新型 | 层叠体的制造系统、层叠体以及半导体装置 | CN218146932U |
| 实用新型 | 制膜系统及制膜装置 | CN218089887U |
| 实用新型 | 镓系氧化物半导体膜及其成膜系统、半导体装置 | CN217691180U |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 信越化学工业株式会社 | 6008 |
| 2 | 信越化学工业株式会社(JP) | 5 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 畠山润 | 103 |
| 2 | 秋山昌次 | 80 |
| 3 | 关原一敏 | 76 |
| 4 | 福岛将大 | 64 |
| 5 | 乙坂哲也 | 62 |
| 6 | 郡大佑 | 58 |
| 7 | 吉川博树 | 47 |
| 8 | 三宅裕树 | 45 |
| 9 | 丸山仁 | 42 |
| 10 | 柏木努 | 37 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 1646 |
| 2 | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 | 892 |
| 3 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 561 |
| 4 | 隆天知识产权代理有限公司 | 318 |
| 5 | 北京市隆安律师事务所 | 312 |
| 6 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 304 |
| 7 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 284 |
| 8 | 北京市柳沈律师事务所 | 264 |
| 9 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) | 214 |
| 10 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 185 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 杜丽利 | 816 |
| 2 | 刘新宇 | 518 |
| 3 | 谢顺星 | 470 |
| 4 | 张晶 | 432 |
| 5 | 李茂家 | 428 |
| 6 | 权鲜枝 | 312 |
| 7 | 何杨 | 293 |
| 8 | 李英 | 290 |
| 9 | 任宗华 | 275 |
| 10 | 张永康 | 258 |
