代理专利文献:294400,涉及专利:10000件
覆盖主要的IPC大类包括:H04(24990)、H01(22243)、A61(18856)、G06(16567)、G01(13408)、B60(9746)、G02(7127)、F16(6942)、H02(5675)、C07(5176)
专利类型分布状况:发明公开(162444)、外观设计(19695)、实用新型(15315)、发明申请(328)、发明授权(114)
专利不同法律状态数据分布状况:失效专利(71962)、有效专利(61284)、无效专利(34841)、实质审查(25563)、公开(4163)
涉及到的主要客户:高通股份有限公司(19111)、罗伯特·博世有限公司(17794)、皇家飞利浦有限公司(10421)、株式会社东芝(9255)、松下电器产业株式会社(8817)、英特尔公司(7243)、株式会社电装(6373)、富士胶片株式会社(5460)、皇家飞利浦电子股份有限公司(5243)、微软技术许可有限责任公司(3852)
涉及到的主要发明人:R·失次-康(288)、S·诺德布鲁赫(257)、潘用达(241)、K·汉森(240)、W·陈(226)、J·孙(221)、蔡周旋(217)、周彦(204)、N·阿贝迪尼(191)、安倍清史(174)
发明专利授权成功率:100%
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
---|---|---|
发明公开 | 用于利用专用配置来改善功耗和吞吐量的智能算法 | CN120359779A |
发明公开 | 测试由单晶硅制成的半导体晶圆抵抗热致位错的抵抗性的方法 | CN120359599A |
发明公开 | 具有改进的针导向部的气体喷射器 | CN120359347A |
发明公开 | 热轧钢板 | CN120359315A |
发明公开 | 用于水性醇酸树脂的交联剂 | CN120359275A |
发明公开 | 获得基于植物的角鲨烯的方法 | CN120359195A |
发明公开 | 成像视场范围外的设备跟踪和监测 | CN120359001A |
发明公开 | 使用空气校准进行X射线设备监测的系统和方法 | CN120358985A |
发明公开 | 基板加工方法 | CN120358673A |
发明公开 | 显示装置 | CN120353045A |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 高通股份有限公司 | 19111 |
2 | 罗伯特·博世有限公司 | 17794 |
3 | 皇家飞利浦有限公司 | 10421 |
4 | 株式会社东芝 | 9255 |
5 | 松下电器产业株式会社 | 8817 |
6 | 英特尔公司 | 7243 |
7 | 株式会社电装 | 6373 |
8 | 富士胶片株式会社 | 5460 |
9 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 5243 |
10 | 微软技术许可有限责任公司 | 3852 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | R·失次-康 | 288 |
2 | S·诺德布鲁赫 | 257 |
3 | 潘用达 | 241 |
4 | K·汉森 | 240 |
5 | W·陈 | 226 |
6 | J·孙 | 221 |
7 | 蔡周旋 | 217 |
8 | 周彦 | 204 |
9 | N·阿贝迪尼 | 191 |
10 | 安倍清史 | 174 |